Self-assemblable polymer and methods for use in lithography
WO2013104499
Art A1
18. Juli 2013
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013104499
- Aktenzeichen
- EP12809779
- Anmeldetag
- 18. Dezember 2012
- Veröffentlichung
- 18. Juli 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B82Y30/00B81C1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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