Polarisationsbeeinflussende Optische Anordnung, insbesondere in einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsanlage
WO2013104744
Art A1
18. Juli 2013
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013104744
- Aktenzeichen
- EP13702193
- Anmeldetag
- 11. Januar 2013
- Veröffentlichung
- 18. Juli 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B5/30G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
1.949 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Frank, Hartmut
Mülheim a. d. Ruhr, Deutschland
103
Patente gesamt
19
Fachgebiete
3
Anmelder-Länder
Schwerpunkte