Heat exchanger and method for removing heat from etching liquid for silicon based materials

WO2013105512 Art A1 18. Juli 2013

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013105512
Aktenzeichen: EP13736447
Anmeldetag: 11. Januar 2013
Veröffentlichung: 18. Juli 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/306C03C15/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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