Microchannel device and method for manufacturing same

WO2013105574 Art A1 18. Juli 2013

Anmelder: Kyushu University, Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013105574
Aktenzeichen: EP13735724
Anmeldetag: 9. Januar 2013
Veröffentlichung: 18. Juli 2013
Rechtsraum: WO
IPC: B81B1/00B01J19/00B81C3/00G01N37/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Kyushu University
Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von