Vapor deposition mask, method for producing vapor deposition mask device, and method for producing organic semiconductor element
WO2013105642
Art A1
18. Juli 2013
Anmelder: Dai Nippon Printing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013105642
- Aktenzeichen
- EP13736100
- Anmeldetag
- 11. Januar 2013
- Veröffentlichung
- 18. Juli 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/24H01L51/50H05B33/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Dai Nippon Printing Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Dai Nippon Printing
Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.
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