On-Chip Diffraction Grating Prepared By Crystallographic Wet-Etch

WO2013106008 Art A2 18. Juli 2013

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013106008
Aktenzeichen: EP12865341
Anmeldetag: 27. März 2012
Veröffentlichung: 18. Juli 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/18G02B5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Intel Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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