Co-cr-pt-based sputtering target and method for producing same

WO2013108520 Art A1 25. Juli 2013

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013108520
Aktenzeichen: EP12865687
Anmeldetag: 12. Dezember 2012
Veröffentlichung: 25. Juli 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G11B5/851B22F1/00B22F9/04C22C1/05C22C19/07C22C32/00C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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