Method for deep micro-etching
WO2013110583
Art A1
1. August 2013
Anmelder: Centre National de la Recherche Scientifique (C.N.R.S.) 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013110583
- Aktenzeichen
- EP13700762
- Anmeldetag
- 22. Januar 2013
- Veröffentlichung
- 1. August 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23F4/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Centre National de la Recherche Scientifique (C.N.R.S.)
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Französische staatliche Forschungsorganisation mit Sitz in Paris. Betreibt Grundlagen- und angewandte Forschung in nahezu allen wissenschaftlichen Disziplinen über zahlreiche Institute und Labore.
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