Ferromagnetic Material Sputtering Target
WO2013111706
Art A1
1. August 2013
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corp. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013111706
- Aktenzeichen
- EP13740781
- Anmeldetag
- 21. Januar 2013
- Veröffentlichung
- 1. August 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/14C23C14/34G11B5/851
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corp.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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