Release film and method of manufacturing semiconductor device using same
WO2013115187
Art A1
8. August 2013
Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013115187
- Aktenzeichen
- EP13743179
- Anmeldetag
- 29. Januar 2013
- Veröffentlichung
- 8. August 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B29C33/68B29C43/18B29C45/02H01L21/56C08F214/26C08J5/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Asahi Glass Company, Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
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Vertreten von
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