Release film and method of manufacturing semiconductor device using same

WO2013115187 Art A1 8. August 2013

Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2013115187
Aktenzeichen
EP13743179
Anmeldetag
29. Januar 2013
Veröffentlichung
8. August 2013
Rechtsraum
WO
IPC
B29C33/68B29C43/18B29C45/02H01L21/56C08F214/26C08J5/18
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Asahi Glass Company, Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

7.331 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen