Purging device and purging method for substrate-containing vessel

WO2013115222 Art A1 8. August 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2013115222
Aktenzeichen
EP13743359
Anmeldetag
30. Januar 2013
Veröffentlichung
8. August 2013
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/677B65B31/00B65D85/86H01L21/673
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Electron Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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