Photosensitive resin composition, photosensitive element using same, method for forming spacer, and spacer

WO2013115262 Art A1 8. August 2013

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013115262
Aktenzeichen: EP13744065
Anmeldetag: 30. Januar 2013
Veröffentlichung: 8. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/031G03F7/004G03F7/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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