Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the same, pattern forming method, manufacturing method of electronic device and electronic device

WO2013115345 Art A1 8. August 2013

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013115345
Aktenzeichen: EP13743285
Anmeldetag: 25. Januar 2013
Veröffentlichung: 8. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/10G03F7/004G03F7/038G03F7/32H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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