Production method for monocrystalline substrate, monocrystalline substrate, and production method for monocrystalline member having modified layer formed therein

WO2013115352 Art A1 8. August 2013

Anmelder: Shin-Etsu Polymer Co. Ltd., National University Corporation Saitama University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013115352
Aktenzeichen: EP13744331
Anmeldetag: 1. Februar 2013
Veröffentlichung: 8. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: B23K26/40B23K26/00B23K26/04B23K26/06B23K26/38B28D5/00H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Shin-Etsu Polymer Co. Ltd.
National University Corporation Saitama University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Polymer

Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. ist ein japanischer Hersteller von Kunststoff- und Elektronikkomponenten mit Sitz in Tokio, Teil des Shin-Etsu-Chemical-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Verpackungstechnik, ergänzt um Kunststofftechnik und Fertigungstechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.

388 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von