Radiation source and lithograpic apparatus

WO2013117355 Art A1 15. August 2013

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013117355
Aktenzeichen: EP13700268
Anmeldetag: 3. Januar 2013
Veröffentlichung: 15. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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