A lithography apparatus and system, a method of calibrating a lithography apparatus, and device manufacturing methods

WO2013117435 Art A1 15. August 2013

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013117435
Aktenzeichen: EP13701089
Anmeldetag: 24. Januar 2013
Veröffentlichung: 15. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands BV
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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