Method for the deposition of a ruthenium containing film using arene diazadiene ruthenium(0) precursors

WO2013117955 Art A1 15. August 2013

Anmelder: L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude, Gatineau, Julien, Lansalot-Matras, Clément 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013117955
Aktenzeichen: EP12867978
Anmeldetag: 30. November 2012
Veröffentlichung: 15. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/18C07F15/00H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
Gatineau, Julien
Lansalot-Matras, Clément
Land: 🇫🇷 Frankreich

🇫🇷 Air Liquide

Französischer Konzern für Industriegase und medizinische Gase, gegründet 1902 auf Basis des Luftverflüssigungsverfahrens von Georges Claude. Beliefert Industrie, Gesundheitswesen und Elektronikfertigung mit Gasen und Anlagentechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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