Pattern evaluation method and pattern evaluation device

WO2013118613 Art A1 15. August 2013

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013118613
Aktenzeichen: EP13747049
Anmeldetag: 30. Januar 2013
Veröffentlichung: 15. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G01B15/04H01J37/22H01L21/027H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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