Polishing composition and method for producing semiconductor substrate
WO2013118710
Art A1
15. August 2013
Anmelder: Fujimi Incorporated 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013118710
- Aktenzeichen
- EP13746808
- Anmeldetag
- 5. Februar 2013
- Veröffentlichung
- 15. August 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B24B37/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fujimi Incorporated
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujimi
Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.
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