Substrate having multilayer reflection film, reflective mask blank, mask blank, method for manufacturing same, reflective mask, and mask

WO2013118716 Art A1 15. August 2013

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013118716
Aktenzeichen: EP13746418
Anmeldetag: 5. Februar 2013
Veröffentlichung: 15. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/24G03F1/44

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von