Electrostatic chuck device

WO2013118781 Art A1 15. August 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2013118781
Aktenzeichen
EP13747074
Anmeldetag
6. Februar 2013
Veröffentlichung
15. August 2013
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/683B23Q3/15H02N13/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Tokyo Electron Limited
Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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