Plasma-treatment device and plasma treatment method

WO2013121467 Art A1 22. August 2013

Anmelder: Tohoku University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013121467
Aktenzeichen: EP12868357
Anmeldetag: 17. Februar 2012
Veröffentlichung: 22. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46C23C16/509H01L21/205H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tohoku University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

2.166 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

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