Protective film for semiconductor wafer, and method for manufacturing semiconductor chip
WO2013121701
Art A1
22. August 2013
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013121701
- Aktenzeichen
- EP13749523
- Anmeldetag
- 24. Januar 2013
- Veröffentlichung
- 22. August 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/301C09J7/02C09J11/04C09J133/00C09J163/00C09J171/10C09J179/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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