Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method and resist film each using said composition, and method for manufacturing electronic device and electronic device respectively using pattern forming method and resist film each using said composition

WO2013121819 Art A1 22. August 2013

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013121819
Aktenzeichen: EP13749623
Anmeldetag: 16. Januar 2013
Veröffentlichung: 22. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C381/12G03F7/038G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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