Semiconductor device and method for manufacturing same

WO2013121926 Art A1 22. August 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited, The University of Tokyo 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013121926
Aktenzeichen: EP13749840
Anmeldetag: 5. Februar 2013
Veröffentlichung: 22. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/20C30B29/40C30B33/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
The University of Tokyo
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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🇯🇵 University of Tokyo

Japanische Universität mit Sitz in Tokio, eine der führenden Forschungsuniversitäten Asiens. Die Universität ist in nahezu allen wissenschaftlichen und technischen Disziplinen aktiv, darunter Materialwissenschaften, Elektrotechnik, Biotechnologie und Medizin.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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