Method for measuring overlay, measuring device, scanning electron microscope, and gui

WO2013121939 Art A1 22. August 2013

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013121939
Aktenzeichen: EP13749894
Anmeldetag: 6. Februar 2013
Veröffentlichung: 22. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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