Phase shift mask and method for forming resist pattern using phase shift mask

WO2013122220 Art A1 22. August 2013

Anmelder: Dainippon Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013122220
Aktenzeichen: EP13749465
Anmeldetag: 15. Februar 2013
Veröffentlichung: 22. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/34G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Dainippon Printing Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Dainippon Printing

Dainippon Printing ist ein japanischer Konzern für Druck-, Verpackungs- und Elektroniktechnologien. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Druck- und Fertigungstechnik sowie Optik und Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verpackungs- und Kunststofftechnik. Die Anmeldungen von 2000 bis 2020 betreffen unter anderem Abscheidungsmasken für die Displayfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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