Methods and apparatus for selective oxidation of a substrate

WO2013122874 Art A1 22. August 2013

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013122874
Aktenzeichen: EP13748955
Anmeldetag: 11. Februar 2013
Veröffentlichung: 22. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/318H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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