Method for optimizing a protective layer system for an optical element, optical element and optical system for euv lithography

WO2013124224 Art A1 29. August 2013

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, ASML Netherlands BV 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013124224
Aktenzeichen: EP13705974
Anmeldetag: 15. Februar 2013
Veröffentlichung: 29. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B1/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT GmbH
ASML Netherlands BV
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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