Plasma processing device and plasma processing method

WO2013124906 Art A1 29. August 2013

Anmelder: Tohoku University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013124906
Aktenzeichen: EP12869431
Anmeldetag: 24. Februar 2012
Veröffentlichung: 29. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46C23C16/509H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tohoku University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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