Magnetic material sputtering target and manufacturing method for same

WO2013125469 Art A1 29. August 2013

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corp. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013125469
Aktenzeichen: EP13751982
Anmeldetag: 15. Februar 2013
Veröffentlichung: 29. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34G11B5/64G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corp.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

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