Strukturformungsverfahren, gegen Aktinische Strahlung Empfindliche oder Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Lackschicht, Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung damit und Elektronische Vorrichtung

WO2013125733 Art A1 29. August 2013

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013125733
Aktenzeichen: EP13752341
Anmeldetag: 22. Februar 2013
Veröffentlichung: 29. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F212/14C08F220/26G03F7/004G03F7/038G03F7/32H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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