Method for processing semiconductors using a combination of electron beam and optical lithography

WO2013126153 Art A1 29. August 2013

Anmelder: Raytheon Company 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013126153
Aktenzeichen: EP13701878
Anmeldetag: 8. Januar 2013
Veröffentlichung: 29. August 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L23/544G03F7/20G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Raytheon Company
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Raytheon Company

US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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