Process for manufacturing low temperature polycrystalline silicon film and low temperature polycrystalline silicon film

WO2013127223 Art A1 6. September 2013

Anmelder: BOE Technology Group Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013127223
Aktenzeichen: EP12870169
Anmeldetag: 10. Dezember 2012
Veröffentlichung: 6. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/20H01L21/02H01L21/268

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: BOE Technology Group Co., Ltd.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 BOE Technology

Chinesischer Elektronikkonzern mit Sitz in Peking, entwickelt und fertigt Display-Technologien wie LCD- und OLED-Bildschirme für Endgeräte und Industrieanwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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