Methods of providing patterned chemical epitaxy templates for self-assemblable block copolymers for use in device lithography

WO2013127608 Art A2 6. September 2013

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013127608
Aktenzeichen: EP13705119
Anmeldetag: 6. Februar 2013
Veröffentlichung: 6. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G06F7/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Software & Datenverarbeitung

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