Substrate washing method, substrate washing device, and vacuum processing device

WO2013128870 Art A1 6. September 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Kyoto University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013128870
Aktenzeichen: EP13755732
Anmeldetag: 25. Februar 2013
Veröffentlichung: 6. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Kyoto University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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🇯🇵 Kyoto University

Renommierte japanische Universität mit breiter Grundlagenforschung in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

1.706 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von