Composition for forming n-type diffusion layer, method for producing n-type diffusion layer, and method for manufacturing solar cell

WO2013129002 Art A1 6. September 2013

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013129002
Aktenzeichen: EP13754511
Anmeldetag: 28. Januar 2013
Veröffentlichung: 6. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/225H01L31/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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