Photoresist composition, resist pattern formation method, compound, acid generator, and photodegradable base

WO2013129266 Art A1 6. September 2013

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013129266
Aktenzeichen: EP13755056
Anmeldetag: 22. Februar 2013
Veröffentlichung: 6. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D317/70G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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