Radiation-sensitive resin composition, resist pattern formation method, polymer, and compound

WO2013129623 Art A1 6. September 2013

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013129623
Aktenzeichen: EP13755742
Anmeldetag: 28. Februar 2013
Veröffentlichung: 6. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F20/28C08F20/38H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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