Single-unit reactor design for combined oxidative, initiated, and plasma-enhanced chemical vapor deposition

WO2013130380 Art A1 6. September 2013

Anmelder: Massachusetts Institute of Technology 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013130380
Aktenzeichen: EP13755909
Anmeldetag: 25. Februar 2013
Veröffentlichung: 6. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44C23C16/452C23C16/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Massachusetts Institute of Technology
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Massachusetts Institute of Technology

US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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