Ion capture apparatus, laser produced plasma radiation source, lithographic apparatus

WO2013131693 Art A1 12. September 2013

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013131693
Aktenzeichen: EP13704031
Anmeldetag: 31. Januar 2013
Veröffentlichung: 12. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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