Heat processing device

WO2013132955 Art A1 12. September 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013132955
Aktenzeichen: EP13758691
Anmeldetag: 8. Februar 2013
Veröffentlichung: 12. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: F27D11/06C23C16/46F27B17/00H01L21/205H01L21/31H05B6/10H05B6/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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