Sputtering target for magnetic recording medium, and process for producing same

WO2013133163 Art A1 12. September 2013

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013133163
Aktenzeichen: EP13758253
Anmeldetag: 1. März 2013
Veröffentlichung: 12. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G11B5/851B21B3/00C22C19/07C22F1/10C23C14/34C22F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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