Photoresist composition, method for forming resist pattern, polymer and compound

WO2013133230 Art A1 12. September 2013

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013133230
Aktenzeichen: EP13758650
Anmeldetag: 4. März 2013
Veröffentlichung: 12. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C07C69/54C08F20/16C08F220/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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