Copolymer for lithography and method for manufacturing same, resist composition, and method for manufacturing substrate

WO2013133250 Art A1 12. September 2013

Anmelder: Mitsubishi Rayon Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013133250
Aktenzeichen: EP13757539
Anmeldetag: 5. März 2013
Veröffentlichung: 12. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C08F220/12C08F2/00G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Rayon

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Kohlenstofffasern und Kunststoffe, seit 2017 als Mitsubishi Chemical firmierend.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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