Method for producing silicon single crystal wafer
WO2013136666
Art A1
19. September 2013
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013136666
- Aktenzeichen
- EP13761069
- Anmeldetag
- 15. Februar 2013
- Veröffentlichung
- 19. September 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B29/06C30B15/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
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