Magnetic material sputtering target and manufacturing method thereof

WO2013136962 Art A1 19. September 2013

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013136962
Aktenzeichen: EP13760424
Anmeldetag: 26. Februar 2013
Veröffentlichung: 19. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C22C1/05C22C5/04C22C19/07C22C32/00C22C33/02C22C38/00G11B5/64G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

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