System and method for particle control near a reticle

WO2013138285 Art A1 19. September 2013

Anmelder: Kla-Tencor Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2013138285
Aktenzeichen
EP13761720
Anmeldetag
12. März 2013
Veröffentlichung
19. September 2013
Rechtsraum
WO
IPC
G03F1/86
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Kla-Tencor Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

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