Photoresist composition, compound and method for producing same

WO2013140969 Art A1 26. September 2013

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2013140969
Aktenzeichen
EP13764629
Anmeldetag
27. Februar 2013
Veröffentlichung
26. September 2013
Rechtsraum
WO
IPC
C07C309/17C07C381/12C07D207/416C07D211/46C07D237/04C07D237/16C07D295/18C07D307/33C07D307/64C07D307/93C07D307/94C07D311/74C07D313/06C07D317/24C07D319/06C07D321/12C07D327/04C07D493/10C09K3/00G03F7/004
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
JSR Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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