Photoresist composition, compound and method for producing same
WO2013140969
Art A1
26. September 2013
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013140969
- Aktenzeichen
- EP13764629
- Anmeldetag
- 27. Februar 2013
- Veröffentlichung
- 26. September 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07C309/17C07C381/12C07D207/416C07D211/46C07D237/04C07D237/16C07D295/18C07D307/33C07D307/64C07D307/93C07D307/94C07D311/74C07D313/06C07D317/24C07D319/06C07D321/12C07D327/04C07D493/10C09K3/00G03F7/004
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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