Photoresist composition, resist pattern forming method, and polymer

WO2013141265 Art A1 26. September 2013

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013141265
Aktenzeichen: EP13763496
Anmeldetag: 19. März 2013
Veröffentlichung: 26. September 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F20/10C08F20/54G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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